일반기술
Room Temperature Imprint Lithography
본 기술은 Micro 및 Nano Scale의 미세패턴이나 형상을 그대로 복제(Replication)하거나, 각인(Imprint), 전사(傳寫)하는 기술로서, 고온 또는 가열공정이 필요 없는, 상온 저압 가공기술이며, 반도체 미세회로 및 Micro Optics 등의 Photo Lithography 공정 개선 및 대체를 가능케하는 기술임당해 기술분야의 경험이 풍부하고 전문성이 인정되며, 특허를 보유하고 있어 차별화된 사업화가 가능할 것으로 판단됨. 당해 기술분야의 국내 순수기술의 개발이 시급한 분야임.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-03-18
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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