일반기술

초정밀 다축 위치 결정 장치

1. 필요성 - 광소자 정렬 광산업의 발달에 따른 광분배 수요 증가 및 광소자 제조공정 에 필요한 필수 기술 : 요구정밀도 10nm - 초정밀 가공 MEMS 기술발달과 마이크로머시인 제작 및 초정밀기계부품 가공 : 요구정밀도 10nm - 반도체 산업 고집적 반도체 가공 및 디펙트 검사 및 노광장치 스테이지 정밀 화 요구 : 요구정밀도 20nm - 초정밀측정 초정밀 3차원 측정, 비구면 렌즈 가공 및 SEM, AFM, SPM : 요구정밀도 1nm 초정밀 다축 위치조정 시스템의 분해능 - 소자의 분해능 : 9nm 입력전압 : 10V, 증가 스텝 : 10mV - 각 축별 정밀도 X축 25nm, Y축 25nm, Yawing 0.0256 urad - 검출센서 : Capacitance gauge - 검축기 분해능 : 1nm - 검출기 전체 측정구간 : +/- 250nm(+/- 10V) - 센서에 의해 분해능이 좌우됨 작동범위가 작은 센서를 사용할 경우 분해능 향상 - 센서신호 검출 장비 : Oscilloscope Oscilloscope Display 구간별 분해능 2mV마이크로 스테이지의 구성1. X, Y, theta_z의 3축 위치조정을 위한 가이드 부분인 탄성힌지2. 압전액츄에이터 3개3. 압전액츄에이터에 의해 발생된 변위를 측정하기 위한 capacitance gauge4. 측정된 변위값을 제어하기 위한 디지털 값으로 변환하기 위한 A/D processor5. 컴퓨터와 main controller에서 나오는 압전액츄에이터 구동신호를 처리하기 위한 D/A processor6. 총체적인 제어를 감독하는 main controller 및 main computer