일반기술

산화패턴용 공중합체 및 이를 이용한 산화패턴의 형성방법

고분자 광산발생제를 폴리머 측쇄에 도입한 유기용매에 대한 용해성이 좋은 폴리머 술포늄염으로 구성된 공중합체와 실리콘 기판위에 AFM을 이용하여 수 mm 수준의 미세 산화패턴을 제공함. 본 발명은 고분자 광산발생제를 폴리머 측쇄에 도입한 폴리머 술포늄염으로 구성된 공중합체를 제공한다. 또한 반도체 또는 금속 기판 위에 본 발명의 공중합체로 이루어진 초박막을 형성시킨 후, 새로운 미세가공 장치인 원자력간 현미경(Atomic Force Microscope)의 탐침을 이용하여 상기의 막에 국부적으로 전압을 가해주어 수 마이크로미터 크기의 산화패턴을 형성하는 것이다.양이온 광개시제인 술포늄염은 빛을 쪼였을 때 강산이 생성되나 용해성이 좋지 않은 단점에 비해, 고분자 광산발생제를 폴리머 측쇄에 도입한 유기용매에 대한 용해성이 좋은 폴리머 술포늄염으로 구성된 공중합체임. 종래의 산화패턴의 형성 시, 선폭의 일정성과 연속성 등의 문제점을 해결하기 위하여 연구 노력한 결과, 플루오로알킬술폰늄염이 치환된 광산발생기가 측쇄기에 도입되어 유기용매에 대한 용해성을 향상시키고, 상기 측쇄기가 도입된 공중합체를 화학결합이 아닌 스핀코팅 방법에 의해 반도체 또는 금속기판 위에 박막을 형성하므로, 얇고 균일한 박막이 형성된다는 것을 알게되어 본 발명을 완성하게 되었다. 또한, 본 발명에 따른 신규한 레지스트 물질을 AFM 리소그래피에 적용하여 최적의 조건으로 조절하여 수 ㎛ 수준의 미세 산화패턴의 형성이 가능하다는 것을 알게 되었다. 따라서, 본 발명은 신규한 레지스트 물질을 최적의 조건에서 AFM 리소그래피에 적용하여 미세 산화패턴과 이를 형성하는 방법으로 제공하는데 그 목적이 있다.