일반기술

가속화 이온의 광원&진공 아크 “RADUGA-5'를 베이스로한 플라즈마 Flow[W025]

광원의 작동 원리는 진공 아크를 포함한 프라즈마의 연속적 발생과 유도 플리즈마 flow의 이차적 적출과, 가속화 이온의 heavy 전류 광선의 구조에 의한 주기적 펄스 또는 연속적 펄스에 베이스를 둔 것이다. 설비에 사용되어진 다이오드 시스템과 플라즈마 필터는 금속의 강력하고 폭넓은 이온 광선의 형태와 플라즈마 flow 형태로 만드는 것이 가능하다. RADUGA-5는 연속적으로 작동이 가능한 무한한 자원을 가지고 있다는 것이 특징이다. RADUGA-5의 광원은 다음의 기술적 프로세스를 현실화 하는 것이 가능하다. - 여러 가지 다른 코팅에 사용할 수 있는 표면의 고효율 preparation ; 다른 코팅에 적용을 할 수 있도록 어떠한 물질이든지 표면을 최적화하는 목적을 가지고, 물질에 주입된 원자의 높은 농축 레벨을 달성하는 고농축 주입 ; 금속과 세라믹, 유리, 플라스틱의 결합으로 만들어진 물품에 여러 가지 다른 이온 플라즈마 산란 코팅(마모 방지, 보호-장식 코팅, 방식제 등) ;이온 주입을 사용한 조인트와 플라즈마 산란 코팅은 다음을 보증한다. - 고흡착 코팅 획득 ; 유리와 자기 제품, 세라믹, 플라스틱, 금속 위에 장식적 코팅을 할 수 있는 코팅의 특성을 향상 ; tool과 장비, 기계 부품을 강화하는 동안 절단 가장자기가 과열되는 문제가 해결됨 ; 필요에 의해, 표면층의 화학적 활동성과 마찰적 특징 그리고 전기 전도성을 변화시켜 물품에 적용할 수 있다. 동 기술은 광원은 이온 주입과 이온 혼합이 함유된 금속성 플라즈마의 침전 기술의 실현을 위해 개발되었다. 광원은 진공-아크와 마그네트론, 그 외 플라즈마 발생기가 공동으로 또는 독립적으로 물질의 표면 특성 변경에 영향을 주도록 하는 설비에 사용된다.