일반기술

진공-아크 발생기내의 플라즈마에서 micro-drop fractions제거장치[W026]

플라즈마 필터 : 진공-아크 발생기내의 플라즈마에서 micro-drop fractions 제거를 위한 장치는 진공 아크 발생기의 플라즈마를 세정하기 위해 개발된 것으로, micro-drop fraction에서 연속적 작용 또는 펄스적인 작용을 하도록 한 것이다. 이온 플라즈마 산란 코팅과 그 외 필터를 위한 장비에 있는 플라즈마 필터는 어떠한 전도 물질(가용성 포함하여)의 플라즈마도 세정하는 것이 가능하다. 동종의 구조를 가진 플라즈마 필터를 사용한 형태의 코팅은 microhardness, 점착력의 증가가 이루어지며, 표면 roughness의 상당한 감소시킬 수 있는 특징을 갖는다. 또한 플라즈마 필터는 plasma-immersion 이온 주입을 위한 장비, 또는 진공 아크에 의한 플라즈마의 발생이 일어나는 이온 공급원에도 사용되어진다. 플라즈마 flow의 이온 성분의 전도 유효성은 30%까지이다. macros-switching의 평균 밀도의 감소는 2-3order, 요구되는 파워는 3kW이다.개발된 진공-아크 발생기내의 플라즈마에서 micro-drop fractions 제거를 위한 장치인 플라즈마 필터의 특징은 구조가 단순하다는 것이며, 진공 아크 vaporizer 의 구조를 가지는 어떠한 과학기술용, 실험을 위한 설비에도 사용될 수 있는 일반성이다. 그리고, 전도의 고효율성, 플라즈마 세정 품질 - 이것은 focused된 플라즈마 flow와 발산 플라즈마 flow 모두의 형태에 사용 가능하게 한다. 또한, 플라즈마 flow의 이온 성분의 전도 유효성은 30%까지이며, macros-switching의 평균 밀도의 감소는 2-3order, 요구되는 파워는 3kW이다.