일반기술

나노초(nanosecond) 지속의 강력한 이온 빔 공급원[W032]

나노초 지속의 강력한 이온 빔 펄스 공급원이 개발되었다. : RATE-1, RATE-2, FLOUR.개발 목적은 과학적 연구과 금속성 물질의 변형, 필름의 침전, 마이크로 일렉트로닉스에 사용하기 위해 개발한 것이다. 빔의 파라미터는 다음과 같다. 이온 에너지 - 100∼400 keV, target에 대한 이온 전류 - 1∼104 A, 전류 밀도 - 1∼300 A/sm2, 펄스 지속 기간 - 20∼200 ns.빔의 구성은 다음과 같다. 양성자, 탄소 이온, 금속 이온, 펄스 반복 비율 - 0.1∼10 Hz.가속기는 나노초 펄스의 높은 전압 공급원, 자계 절연 focusing 다이오드가 포함되어있다.기본 전압 펄스와 동시에 발생하는 부가적 고전압 펄스에 의해, 밀도 높은 플라즈마의 anode 표면 위에 디자인된 method는 공급원의 특수한 특징이다.빔의 파라미터 : 이온 에너지 - 100∼400 keV, target에 대한 이온 전류 - 1∼104 A, 전류 밀도 - 1∼300 A/sm2, 펄스 지속 기간 - 20∼200 ns빔의 구성 : 양성자, 탄소 이온, 금속 이온, 펄스 반복 비율 - 0.1∼10 Hz.가속기는 나노초 펄스의 높은 전압 공급원, 자계 절연 focusing 다이오드가 포함되어있다.

기술정보

기술분류
물리학 > 가속기 / 빔물리 (P74, R14)
보유기관
티알씨코리아
기술유형
일반기술
등록일
2004-05-17
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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