일반기술

감(가스 소자(fq)

본 발명은 알루미나등의 담체()를 이용하지 않는 간단한 구조로서 높은 가스감도와 감가스 특성인 장기적인 안정성을 같이 갖고 있는 소자를 제공한는 것이다. 특허설명서에서는 측정대상 가스인 일산화탄소, 수소 등의 환원성가스만 올라가 있지만u반설상구조(損있는 것 같기도 혹은 없는 것 같기도 하게 보이는 구조)의 가스 감응체v와u나노미터사이즈의 극박 촉매층v의 기능에 의한u고감도v와u장수명(v이 동시에 달성되는 냄새센서, 가스센서, 그 외의 반도체센서에도 폭 넓게 응용이 가능하다고 본다. 특정대상 가스가 일산화탄소, 수소 등의 환원성가스의 경우에는 가스감응체로서 산화석, 산화아연계의 산화물반도체를 이용해, 본 기술이 유효하게 적용 가능하다. 싼 가격과 간편, 견뢰(S)한 감가스 소자가 나온다면 일상생활에서 폭 넓게 센서를 이용하는 것이 가능하고 그 수요는 비약적으로 증대한다.본 발명은 알루미나등의 담체(擔體)를 이용하지 않는 간단한 구조로서 높은 가스감도와 감가스 특성인 장기적인 안정성을 같이 갖고 있는 소자를 제공하는 것으로, 본 감가스 소자는 절연 기판 위에 만들어 놓은 (1)가스감응체(예를들면 산화석,산화아연등의 금속산화물반도체)와 (2)촉매층(예로서 백금, 파라지움등의 귀금속)과 (3)한쌍의 전극(예로, 금,백금등)으로 구성된다. 본 감가스 소자는 앞에서 기술한 가스감응체가 「부분적으로 절연 기판을 덮지 않은 절연 기판의 노출부분」을 가지고 있으며, 이 가스 감응체의 위와 절연 기판 위의 노출부분에는 백금, 파라지움으로 구성된 질량막 두께 5나노미터(nanometer)이하의 극박(極薄) 촉매층이 형성 된 것을 특징으로 하고 있다. 본 가스감응체는 증착법(蒸着法), 스퍼터링(sputtering)법 등에 의해 형성된다. 형성된 가스 감응체가 질량막 두께 20나노미터(nanometer)이하의 박막(薄膜)인 경우에 막(膜)은 절연 기판을 완전히 덮고 있는 상태는 아니고 연속막이기는 해도 미크로(micro)적인 시점으로 본다면 부분적으로 막(膜)은 존재하지 않는 즉 있는 것 같기도 혹은 없는 것 같기도 한 상태에 놓여있다. 이 상태에 있는 가스감응체 위에 질량막 두께 5나노미터(nanometer)이하의 극막(極膜) 촉매층의 증착법(蒸着法), 스퍼터링(sputtering)법 등에 의해 형성된다면 촉매층은 가스감응체뿐만 아니라 절연 기판상에도 직접 퇴적(堆積)한 상태로 된다. 그 상태의 촉매는 감가스체의 확산을 일으키기 어렵고 소자의 감가스 특성은 장기적인 안정성을 가지고 오는 것으로 보여진다.