일반기술

이온 활동 근원과 아크 플라즈마 클리닝[W036]

아크의 연속적인 연소에 의해, 부품의 세정 처리를 위한 이온과 플라즈마의 활동 Source를 증가시켰다.부품 클리닝의 프로세스는 아크 플라즈마와 이온 펄스의 교대에 의해 일어나며, 이 플라즈마에서 가속화된다. 이온의 투명성 루버 시스템에서의 증가를 위해 진공 아크 플라즈마에 의해 positive 포텐셜의 상태에서 개발되었다 아크 플라즈마에서 나온 마이크 크기의 drop 파편 제거 유니트 또한 개발되었다.동 기술에서 루버 시스템의 투명성은 플라즈마의 이온을 반사하는 분야의 개발에 의해 증가되었다. 플라즈마 전자의 자성은 전류와 시리즈에 연결된 것의 흐름에 의해 제공되는 것이며, 이것은 루버 시스템의 전극에 반대되는 것이다. 루버 시스템은 플라즈마 흐름의 방향을 변경하지 않고, 특히 플라즈마-아크 증발기의 사용을 매우 편리하게 한다. 예를 들자면 "Damascus steel", "NNV" 타입의 설비가 있다. 전자의 자성은 열구적 자석에 의해 보증되는 것이다.연속적인 아크 방출 플라즈마에서 촉진된 코팅 품질의 증가는 플라즈마의 마이크로 drop 파편의 제거 knot을 허락하며, 공축 원추형 전극을 사용한 루버 시스템 형태에서 만들어 진다.동 기술에서 루버 시스템의 투명성은 플라즈마의 이온을 반사하는 분야의 개발에 의해 증가되었다. 플라즈마 전자의 자성은 전류와 시리즈에 연결된 것의 흐름에 의해 제공되는 것이며, 이것은 루버 시스템의 전극에 반대되는 것이다. 루버 시스템은 플라즈마 흐름의 방향을 변경하지 않고, 특히 플라즈마-아크 증발기의 사용을 매우 편리하게 한다. 예를 들자면 "Damascus steel", "NNV" 타입의 설비가 있다. 전자의 자성은 열구적 자석에 의해 보증되는 것이다.