일반기술

매핑 타원해석기

본 발명은 매핑 타원해석기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 대형 LCD, PDP와 같은 대면적 시편의 두께, 또는 이러한 시편의 표면의 광학적 또는 미세 구조적 균일도 분포 등을 측정할 수 있는 타원해석기 헤드 및 그를 이용한 매핑 타원해석기에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 타원해석기의 광부품을 소형모듈로 일체화 시킨 타원해석기 헤드와, 이를 x-y 이동스테이지에 부착하여 움직이면서 시편을 측정하는 매핑 타원해석기를 제공하는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 매핑 타원해석기는 시편을 지지하는 시편장착대와, 상기 시판 장착대에 수직으로 이격되어 설치된 x-y 이동스테이지와, 상기 x-y 이동스테이지에 장착되어 상기 시편의 검사면에 평행한 2개의 교차축을 따라 이동 가능한 일체형 타원해석기 헤드와, 상기 타원해석기 헤드와 연결되어 이를 구동시키는 타원해석기 헤드 구동부를 포함하며, 상기 타원해석기 헤드는 발광부와 수광부를 포함한다.기존 기술에서의 문제점은 시편을 움직이기 때문에 시편크기의 4배에 해당하는 측정공간이 필요하게 된다. 반면 본 발명품은 시편크기의 공간만 필요로 하므로 공간상 4배의 이득이 발생하고 또한 대면적 시편을 움직일 필요가 없기 때문에 장비의 타원해석기 및 이동 스테이지의 크기 또한 크게 축소가 된다.【발명이 이루고자 하는 기술적 과제】본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 타원해석기의 광부품을 소형모듈로 일체화 시킨 타원해석기 헤드와, 이를 x-y 이동스테이지에 부착하여 움직이면서 시편을 측정하는 매핑 타원해석기를 제공하는 것이다.