일반기술

원자력간 현미경 리소그래피 기술을 이용한 포토 마스크 제작 방법

본 발명은 차세대 노광 공정 마스크 중의 하나로 접촉형 원자력간 현미경(Contact Atomic Force Microscope;NT-MDT)의 캔틸레버 팁과 금속{티타늄(Ti), 크롬(Cr)}/Quartz 기판 혹은 PBET/금속{티타늄(Ti), 크롬(Cr)}/Quartz 기판과의 양극산화법을 이용하는 제1단계와 튀어나온 티타늄 옥사이드를 식각하는 제2단계를 포함하는 노광 마스크(Optical Mask) 제작방법 및 이때 제작되는 마스크를 제공한다. 본 발명은 투과형 노광 마스크로서 기존의 노광 포토 마스크에 비해 패턴 사이즈를 수 nm(40 nm 이하)까지의 패턴 사이즈를 얻을 수 있는 것을 특징으로 한다.기존의 포토 마스크의 미세 패턴은 electron beam을 이용하여 30 nm이상 미세 패턴 구현한 것에 비해서 본 발명은 AFM 리소그래피를 이용하여 패턴 사이즈를 수 nm 이하로 줄일수 있으며 패턴의 모양 또한 원하는 여러 모양으로 얻을수 있는 것을 특징으로 함. 【발명이 이루고자 하는 기술적 과제】따라서, 본 발명은 이와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로서, 기존 전자선 묘화 방식의 미세 선폭 구현의 한계를 벗어나 최소 수 nm 까지의 미세 패턴을 구현할 수 있는 포토 마스크 제작방법을 제공함으로써, 마스크의 패턴 사이즈를 획기적으로 줄일 수 있을 뿐만 아니라 패턴의 모양 또한 여러 가지의 모양으로 제작할 수 있고, 또한 마스크 제작공정도 간단하게 할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 원자력간 현미경 리소그래피 기술을 이용한 포토 마스크 제작방법은 투명한 유리석영 기판 위에 티타늄이나 크롬의 금속 박막을 스퍼터링을 통해 증착하는 단계와, 원자력간 현미경을 이용하여 캔틸레버 팁과 상기 박막 구조의 기판에 각각 전계를 인가하여 기판에서 소정의 높이와 폭을 갖는 티타늄 옥사이드나 크롬 옥사이드 물질의 산화막을 형성하는 단계와, 상기 옥사이드 물질의 식각처리 후 레지스트 물질을 세정하여 초 미세 선폭의 포토 마스크를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.