일반기술

기체의 유속(流速)분포 측정기술

본 기술은 반도체 공정 등에서처럼 가스를 이용하여 공정을 진행시킬 때 기체의 흐름의 많고 적음을 상대적 또는 절대적으로 동시에 측정, 이를 가시화하여 볼 수 있는 기술이다. 즉, 현재에는 정해진 공간 내에서 가스의 흐름이 있을 때 만일 어느 부분에서는 가스의 분출량이 많고 어느 부분에서는 분출량이 적다고 하더라도 이것을 확인하기 위해서는 실제로 제품을 만들어 보고 또 여러 가지 시험을 거쳐 확인을 해 본 후에야 알 수 있다. 위의 기술은 실제로 각 부분의 가스의 유속이 얼마인가를 실제 공정에 들어가기 전에 시스템을 진단하여 시스템을 최적화 할 수 있게 하여 시간과 경비를 줄일 수 있는 기술이다.■ 기술의 장점 및 기대효과 : ▶ 기술의 장점 : 반도체 또는 플라즈마 공정 등에서 기체의 흐름율 측정에 유용하게 사용될 수 있는 방법이면서도 그 원리가 간단하고 제작비가 적게 소요되어 활용도가 높을 것으로 예측됨. ▶ 사업성 : 측정기는 포터블 타입으로 구성이 가능하며 제작비는 대당 약 2 ~ 3,000만원 소요, 국내 필요한 댓수는 연간 약 50~ 200 대 정도로 예측 ▶ 적용분야 : 반도체 등의 CVD공정, 플라즈마 공정 등에서 사용될 수 있음. ▶ 기대효과 : 공정에서의 시스템의 진단을 통한 공정조건의 최적화로 생산 수율을 높일 수 있음.■ 활용 가능 분야 : 1) 반도체 공정에서의 head shower에서 나오는 가스의 유속 분포 측정. 유속의 분포를 가시화 하여 한눈에 알아볼 수 있음. 2) 기타 공간내의 가스의 흐름(유속)의 가시화 하는 기술