일반기술

ＣＨＳ 공정에 의한 ＢＴＯ계 유전체 박막 제조 방법

본 발명은 강유전체 BaTiO3(BTO)계 유전체 박막의 제조 방법에 관한 것으로, 수열 합성법에 의해, Ba원과 광화제를 포함하는 용액을 수열 반응시켜 결정핵층 (seed layer)을 제조하는 단계; 및 졸-겔법에 의해, Ba원, Ti원 및 산을 포함하는 용액에 BTO계 결정 분말을 혼합한 슬러리를 상기 결정핵층 위에 코팅한 후 건조, 하소 및 소결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 본 발명에 따른 BTO계 유전체 박막의 제조 방법에 의하면, 수열 합성법에 의해 결정핵층을 제공하고 졸-겔법으로 기판과 막 사이의 밀착을 증진시키는 한편, 하소와 소결 과정을 통해 박막의 결정화를 높임으로써 고밀도화된 고유전율의 박막을 제조할 수 있다. 이와 같이 얻어진 고부가가치성, 고품질의 박막은 우수한 기계적 강도와 유전 특성을 나타내는 메모리 소자를 비롯하여 커패시터, PTCR 써미스터, 압전 트랜스듀서, 필터 등의 소자에 응용할 수 있다.수열 합성법에 의해, Ba원과 광화제를 포함하는 용액을 수열 반응시켜 결정핵층(seed layer)을 제조하는 단계; 및 졸-겔법에 의해, Ba원, Ti원 및 산을 포함하는 용액에 BTO계 결정 분말을 혼합한 슬러리를 상기 결정핵층 위에 코팅한 후 건조, 하소 및 소결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 BTO계 유전체 박막의 제조 방법.수열 합성법과 졸-겔법을 접목시킨 혼합 액상 공정, 즉 CHS(combined hydrothermal and sol-gel) 공정에 의해 균일 조성의 고밀도 유전체 박막을 제조하기 위해 개발된 공정에 관련된다.