일반기술

잔류 응력에 대한 기공성 완충층을 포함하는 플라즈마 내식성 부재

본 발명은 반도체 장치 등에서 사용되는 내플라즈마성 부재에 관한 것으로, 보다 상세하게는 쿼츠 모재상에 졸겔법에 의해 형성된 플라즈마 내식성 코팅층을 포함하는 플라즈마 내식성 부재에 관한 것이다. 본 발명은 쿼츠 모재와, 상기 쿼츠 모재상에 형성되는 조밀한 제1층과, 상기 쿼츠 모재와 상기 제1층과의 사이에 개재되며 상기 제1층보다 높은 기공율을 갖는 완충층으로 구성된 코팅 구조를 포함하는 플라즈마 내식성 부재를 제공한다. 본 발명에 따르면 쿼츠 모재에 형성된 코팅층에 발생한 잔류 응력을 완화시킬 수 있다. 본 발명은 반도체 장치 등에서 사용되는 내플라즈마성 부재에 관한 것으로, 보다 상세하게는 쿼츠 모재상에 졸겔법에 의해 형성된 플라즈마 내식성 코팅층을 포함하는 플라즈마 내식성 부재에 관한 것이다. 본 발명은 쿼츠 모재와, 상기 쿼츠 모재상에 형성되는 조밀한 제1층과, 상기 쿼츠 모재와 상기 제1층과의 사이에 개재되며 상기 제1층보다 높은 기공율을 갖는 완충층으로 구성된 코팅 구조를 포함하는 플라즈마 내식성 부재를 제공한다. 본 발명에 따르면 쿼츠 모재에 형성된 코팅층에 발생한 잔류 응력을 완화시킬 수 있다.