일반기술

나노 회로판 콘트롤 기술

두이스부르크 대학이 마이크로 일렉트로닉 제조회사와 공동협력으로 개발한 이 광학계측 기술은 나노 회로판 석판 인쇄물(Nano Imprint Lithography-NIL)의 Quality를 콘트롤 하는 기술이다. 나노 단위의 패턴을 분석하는데에는 일반적(normal)인 폴리머가(Polymer) 사용되어 지는데 비해, 이 기술에서는 fluorescent labels로 강화된 폴리머가 사용되어진다. 따라서 나노 회로판의 낙인샘플이 스캔되어지면 회로판 표면 각 부분들의 fluorescence 강도가 계산되어지는데, 이것을 통해 나노 회로판 인쇄물의 응결, 용해 부분등의 Quality가 콘트롤 되어 지는 것이다 .이러한 분석 기술은 나노 회로판 인쇄 프로세스가 진행되는 동안의 여러 조건들과 최종품의 질적 유효성을 승인하는 아주 중요한 정보를 제공한다. 이 기술은 통상적으로 이용되어져 온 다른 나노 회로판의 인쇄 결과 Quality 콘트롤 기술들에 비해 생산비용 면에 있어서도 저렴하다 하겠다. 또한 현재 이 기술의 개발자들은 나노 회로판 인쇄물의 Quality Control 뿐만 아니라 좀 더 빠르고 사용자가 이용하기 편리하며 믿을 수 있는 스캐닝 프로세스 소프트웨어 개발에 노력하고 있다.