일반기술

FHD 공정을 이용한 광민감성 평면 도파로형 소자의 제작방법

본 발명은 FHD 공정을 이용한 광민감성 평면 도파로형 소자의 제작방법에 관한 것으로서, 실리콘 웨이퍼 위에 FHD 공정을 통해 각 층의 기능을 수행 할 수 있는 여러 층의 조성을 차례로 증착한 후, 이렇게 증착 시킨 각 층의 조성을 한번의 소결과정에 의해 고밀도화시켜서 클래딩층과 코어층을 이루는 전구역의 굴절률을 같게 하면서도 필요에 따라 코어층에만 광민감성을 높게 유지하여 광도파로를 만들 수 있도록 함으로써, 광도파로의 기능을 훌륭하게 수행할 수 있도록 제작하는 방법으로서, 기존의 방법에 비해 간편하고 빠른 시간에 광민감성 평면 도파로형 소자를 효과적으로 제작 할 수 있도록 한 FHD 공정을 이용한 광민감성 평면 도파로형 소자의 제작방법을 제공하고자 한 것이다.실리콘 웨이퍼 위에 FHD 공정을 통해 각 층의 기능을 수행 할 수 있는 여러 층의 조성을 차례로 증착한 후, 이렇게 증착 시킨 각 층의 조성을 한번의 소결과정에 의해 고밀도화시켜서 클래딩층과 코어층을 이루는 전구역의 굴절률을 같게 하면서도 필요에 따라 코어층에만 광민감성을 높게 유지하여 광도파로를 만들 수 있도록 함으로써, 광도파로의 기능을 훌륭하게 수행할 수 있도록 제작하는 방법으로서, 기존의 방법에 비해 간편하고 빠른 시간에 광민감성 평면 도파로형 소자를 효과적으로 제작 할 수 있도록 한 FHD 공정을 이용한 광민감성 평면 도파로형 소자의 제작방법을 제공하고자 한 것이다.일정한 두께의 실리카층을 갖는 기재 위에 하부 클래딩층, 코어층, 상부 클래딩층을 형성할 분말을 순차적으로 증착 한 후, 이렇게 각 층을 증착한 기재를 한번의 소결과정을 통해 고밀도화하여 전구역의 굴절률을 같게 하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 한다.