일반기술

대기압 플라즈마 발생장치

본 발명은 안정화된 대기압 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 상기 발생장치(100)는, 그 내부에 한쌍의 전극(112)이 구비되고, 플라즈마(P)를 발생시켜 시료(2)의 표면을 세정하는 플라즈마 건(110)과; 상기 플라즈마 건(110)에 연결되어 대기압 이상의 압력으로 조절된 반응가스를 공급하는 반응가스공급부(120)와; 상기 플라즈마 건(110)의 전극(112)에 연결되어 10～100Hz의 주파수를 갖는 고전압을 제공하는 고전압공급부(130)와; 상기 고전압공급부(130)에 50～60Hz의 상용주파수를 갖는 교류전원을 공급하는 전원부(134)와; 상기 고전압공급부(130)의 작동을 제어하는 조절부(132);로 구성되어, 대기압 이상의 압력에서 안정화된 플라즈마(P)를 발생시킴으로써 종래에 요구되던 진공장치 등과 같은 고가의 장비가 불필요하게 되어 경제적이고, 플라즈마 발생장치(100)의 범용화를 꾀할 수 있어 경제적인 세정시스템을 구축할 수 있다.리드 프레임(Lead Frame)이나 PCB와 같은 부품 및 병뚜껑이나 화장품 케이스 등을 세정용 액체 속에 침적시켜 세정액체와의 화학반응에 의해 그 표면을 세정하는 습식세정 방법이 이용되었는데, 이러한 습식세정 방법은 세정액체가 여러 종류의 화학약품으로 이루어져 있기 때문에, 화학약품에 의한 환경오염 문제가 야기되었고, 화학약품에 따른 빈번한 장비 교체작업으로 인해 생산성이 저하되며, 생산경비가 상승되는 문제점이 있었다.그리고, 위와 같은 문제점을 감안하여 최근에는 저압의 진공조 내에 플라즈마를 발생시켜 만들어진 이온이나 활성화된 가스를 시료의 표면과 접촉시켜 시료 표면의 불순물이나 오염물질을 제거하는 진공 플라즈마 기술을 이용한 세정방법이 개발되었는데, 이는 플라즈마를 발생시키기 위해서 별도의 진공장치가 요구되어 생산원가가 상승되고, 제한된 크기의 진공 반응용기가 반드시 요구되기 때문에 습식 세정보다 생산성이 떨어짐으로 인해 우수한 세정효과에도 불구하고 널리 이용되지 못하는 문제점이 있었다.이에, 본 발명은 전술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 시료의 표면을 세정하기 위한 플라즈마를 대기압 이상의 압력에서 안정화한 상태로 발생시킴으로써, 플라즈마 발생장치의 범용화를 이뤄 경제적인 세정시스템을 구축할 수 있도록 한 대기압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 그 목적이 있다.본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치에 의하면, 대기압 이상의 압력에서 안정화된 플라즈마를 발생시킴으로써 종래에 요구되던 진공장치 등과 같은 고가의 장비가 불필요하게 되어 경제적이고, 플라즈마 발생장치의 범용화를 꾀할 수 있어 경제적인 세정시스템을 구축할 수 있는 효과가 있다.