일반기술

급속 열처리법을 이용한 박막전지용 양극박막의 제조방법

본 발명은 급속 열처리법을 이용한 박막전지용 양극박막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 박막전지용 양극박막 제조시 박막층을 특정 조건하에서 급속 열처리함으로써, 종래 로(furnace) 열처리를 이용하여 제조하는 경우와는 달리 상온에서 박막층 표면에 형성되는 오염층을 효율적으로 제거하여 박막전지의 물성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 종래 로 열처리법을 이용한 박막전지용 양극박막의 제조방법의 문제점이었던 장시간 열처리에 따른 박막과 전류집전체 사이의 계면반응, 박막표면의 열화, 온칩(on-chip)화시 소자에 미치는 악영향 및 박막전지 제조효율의 감소 등을 해결할 수 있도록 개선한 박막전지용 양극박막의 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 종래 로 열처리를 이용하여 제조하는 경우와는 달리 박막표면에 형성된 오염층을 효율적으로 제거하여 박막의 물성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 종래 로 열처리법을 이용한 박막전지용 양극박막의 제조방법의 문제점이었던 장시간 열처리에 따른 박막과 전류집전체 사이의 계면반응, 박막표면의 열화, 온칩(on-chip)화시 소자에 미치는 악영향 및 박막전지 제조효율의 감소 등을 해결할 수 있도록 개선한 박막전지용 양극박막의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.