일반기술
다층박막법을 이용한 적외선감지층 제조 방법
본 발명은 다층박막법을 이용한 적외선감지층 제조방법에 관한 것이다.; 본 발명의 목적은 1)일반적인 스퍼터링 장비를 이용하며 안정적으로 제조가 가능한 두 개의 단층박막들을 이용함으로써 산소의 단층 박막으로의 충분한 확산을 유도하여 적외선 감지층의 제조 공정시에 공정상의 재현성을 확보토록 한다. 2) 상이한 전기적 특성을 갖는 단층 박막들을 다층화시켜 원하는 박막의 특성 조절이 가능토록 한다.; 본 발명에 따르면, PECVD법으로 실리콘질화막을 형성한 후, 안정적으로 제조가 가능한 단층박막의 제조단계에서 각각의 단층박막을 80 ∼ 100Å 두께로 수십층을 증착한 다음, 열처리 공정을 통해 완전한 산소의 확산을 유도하여 박막의 안정화를 구현할 수 있는 다층박막법을 이용한 적외선감지층의 제조방법이 제시된다.; 따라서, 본 발명은 종래의 방법보다 바나듐 - 산소계에서 안정적으로 제조할 수 있는 상으로 이루어진 단층 박막을 80 ∼ 100Å 두께로 다층화한 후, 열처리 공정을 행함으로써 완전한 산소의 확산을 유도하여 안정적인 박막화 공정기술의 개발을 통한 재현성을 확보할 수 있다.반도체기판 위에 실리콘질화막을 형성하는 단계와; 상기 실리콘질화막 위에 제 1산화바나듐 박막을 적층하는 단계; 상기 제 1산화바나듐 박막 위에 제 1바나듐금속 박막을 적층하는 단계; 상기 제 1바나듐금속 박막 위에 제 2산화바나듐 박막을 적층하는 단계; 상기 제 2산화바나듐 박막 위에 제 n바나듐금속 박막을 적층하는 단계; 상기 제 n바나듐금속 박막 위에 제 n산화바나듐 박막을 적층하는 단계; 및 상기 결과물에 다층 박막의 안정화를 위한 열처리 공정을 실시하는 단계를 포함하여 이루어지는 다층박막법을 이용한 적외선감지층의 제조방법.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 미소·극미소 전자시스템
- 보유기관
- 한국기술벤처재단
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-07-15
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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