일반기술

Matching Network

감지센서에 의해 전압, 전류의 값을 체크하여 감지된 임피던스의 값에 따라 제어장치의 제어신호에 따라 모터부의 동작에 의해 가변콘덴서의 용량을 조절하고, 인가되는 전원에 따라 공진에 필요한 인덕터의 값의 가변 동작이 필요없는 고정 인덕터와 가변콘덴서에 의해 안정적인 공진이 발생하고 전원장치와 플라즈마 부하사이에 안정적이고 정확한 임피던스 정합을 제공하는 정합장치에 관한 것으로서, 인가된 전원장치의 전류 및 전압을 체크하여 임피던스 값을 감지하는 감지센서와, 상기 감지센서로부터 유입된 임피던스 값을 조절하여 플라즈마 발생에 필요한 정합회로의 동작을 제어하는 제어장치와, 상기 감지센서와 병렬로 연결되고 유입된 전원에 따라 직렬로 구성하여 반사파 및 고주파 차단센서, 상기 제어장치의 제어신호에 따라 상기 가변콘덴서를 각각 구동하기 위한 모터부와, 상기 가변콘덴서 사이에 병렬로 구성되어 정합회로의 범위를 결정하는 고정인덕터와, 상기 가변콘덴서에서 유입된 전위와 상기 제어장치의 제어신호에 따라 전자들의 플라즈마의 전위차를 측정하는 직류바이어스로 구성된 것을 특징으로 한다.RF 전원공급기, 임피던스 정합장치 및 반응 챔버를 포함하는 시스템에서, 가변 임피던스부, 고주파 감지센서부 및 제어부를 포함하여 구성되는 임피던스 정합장치.상기 RF 전원공급기의 출력부에 직렬로 연결되는 커패시터(Ce)와, 상기 RF 전원공급기의 출력부이며 상기 커패시터(Ce)의 입력부에서 전압 및 전류를 검출하는 전압 및 전류검출회로와, 상기 커패시터(Ce)의 출력부에서 전압 및 전류를 검출하는 전압 및 전류검출회로와, 상기 전압 및 전류검출회로에서 검출된 전압 및 전류를 이용하여 RF 전원공급기와 부하[반응 챔버]의 전압과 전류의 위상차 및 전압과 전류의 크기의 비 등을 마이크로프로세서로 분석하여 상기 제어부로 출력하는 임피던스 자동검출기(IAD : Impedance and Automatic Detector)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 임피던스 정합장치.