일반기술

금속 착체 및 이를 이용한 금속 나노점의 제조방법

본 기술은 금속 착체 및 이를 이용한 금속 나노점의 제조방법에 관한 것으로 구체적으로는 기화특성이 우수한 금속착체 및 상기 금속 착체를 사용함으로써 목적하는 금속 나노점을 용이하게 제조할 수 있는 유기금속 화학증착법(MOCVD)에 관한 것이다. 나노기술에서 나노점의 응용은 점차 많은 부분을 차지하고 있다. 예를 들어 전자장치, 수조 저장장치, 필터 등에 폭넓게 사용되는 탄소 나노튜브 제조시, 절연체 기재 위에 금속 나노점을 형성한 후 이 위에 탄소나노튜브를 형성하는 경우 금속 나노점 위에서 선택적으로 분해반응이 촉진됨으로써 탄소 나노튜브가 빨리 생성된다.본 기술은 나노점이 필요한 모든 기술분야에서 응용가능하며 활용가능하다. 이 기술은 화학증착기술을 이용해쉽고 저렴하게 나노점을 증착할 수 있는 기술이다. 즉, 공정변수, 전구체의 구조, 증착할 기판의 표면처리상태 등에 따라 나노점의 크기와 밀도를 쉽게 조절가능한 기술이다. 이는 특정 구조의 금속 착체를 사용하는 경우 화학증착법에 의해 목적하는 금속 나노점을 용이하게 형성할 수 있음을 발견하고 본 기술을 완성하게 되었다. 그리고, 기화특성이 우수한, 특정 구조의 금속 착체 및 상기 착체를 사용하여 목적하는 금속 나노점을 용이하게 제조할 수 있는 유기금속 화학증착법을 제공하는 것이다. 본 기술의 금속착제는 열적으로 안정하여 취급이 용이하고 0~130도에서 기화하는 등 기화특성이 우수하며 중요하게는 전구체로서 MOCVD에 적용시 기판상에 금속 나노점을 형성하는 특징이 있는 기술이다. MOCVD에 적용시 구리 나노점을 형성하는 본 기술의 구리착제의 특성은 기존의 구리 전구체에 적용시 구리박막을 형성하는 것과 차별화되며 이는 금속착제의 구조와 밀접한 연관이 있는 것으로 이해된다.