일반기술

기판 미세가공을 이용한 삼각산맥구조물 및 그 성형틀제조방법

본 기술은 기판 미세가공을 이용한 삼각산맥구조물 및 그 성형틀 제조방법에 관한 것으로, 특히 실리콘 기판상부 및 하부에 각각 제1 및 제2 절연막을 형성하고, 제1절연막 상부에 삼각산맥구조물의 산맥영역을 정의하는 감광막 패턴을 형성하고, 감광막 패턴에 맞추어 제1절연막을 식각하여 식각 마스크 패턴을 형성한 후에, 감광막 패턴을 제거하고, 식각 마스크 패턴에 의해 드러난 기판을 방향성 습식 용액을 사용하여 식각하는 것으로 특징으로 하는 기판 미세가공으로 삼각 골짜기를 형성하고, 식각 마스크 패턴 및 제2절연막을 제거하여 삼각산맥구조물의 실리콘 성형틀을 형성한다.본 기술은 수 마이크로에서 수백 마이크로 단위의 형상을 구현할 수 있는 기판 미세가공을 이용하여 삼각산맥의 피크부분이 날카로운 삼각산맥구조물의 성형틀을 만들 수 있다. 또한 본 기술은 성형틀을 이용하여 연성의 폴리머로 삼각산맥구조물을 성형할 수 있기 때문에 유연한 삼각산맥구조물을 대량으로 생산할 수 있게 한다. 유연한 구조물 특성에 의해 평평한 부분만 아니라 곡면에도 붙일 수 있어서 삼각산맥구조물의 적용범위가 확대된다. 또한 본 기술은 실리콘 성형틀을 이용하여 사출성형, 압출성형 또는 핫 엠보싱 등을 하기 위한 삼각산맥구조물의 금속 형틀을 제조하여 자동화를 통한 삼각산맥구조물의 대량생산을 가능하게 한다.