일반기술

유전체 기판의 공진장치

본 기술은 유전체 기판의 공진장치에 관한 것으로, 이 공진장치는 유전체 기판위에 형성된 유전체 공진기와, 유전체 공진기 위에 현성된 유동성 유전체막과, 유동성 유전체막에서 공진기와 커플링이 발생하는 위치에 배치된 마이크로 스트립라인과, 유전체 기판위에 형성되고 유전체 공진기와 소정의 갭을 두고 유전체 공진기를 둘러싼 공진기 지지기판으로 구성된다. 그러므로 본 기술은 유전체 기판과 마이크로스트립라인의 거리를 멀게 하여 도전성 손실을 줄이고 유전체 공진기를 고효율의 유전체 기판을 사용하고 유동성 유전체막을 추가하기 때문에 유전율 크기가 높아져서 공진기의 Q값이 크게 증가하게 된다.본 기술에서는 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 유전체 기판과, 유전체 공진기, 유동성 유전체막을 순차 적층하고, 유동성 유전체막내에 공진기와 커플링이 발생하도록 마이크로스트립 라인을 배치하여 공진장치의 구조를 개선함으로써 다층 구조의 회로, MMIC 또는 필터 등의응용회로에 공진기를 적용할 경우 높은 Q값을 확보할 수 있는 유전체 기판의 공진장치를 제공하고자 한다. 유전체 기판위에 마이크로스트립 라인과 유전체 공진기를 갖는 유전체 기판의 공진장치에 있어서, 유전체 기판위에 형성된 유전체 공진기오, 유전체 공진기 위에 형성된 유동성 유전체막과, 유동성 유전체막에서 공진기와 커플링이 발생하는 위치에 배치되어 형성된 마이크로스트립 라인을 구비한다.