일반기술
PRESSURE REGULATOR 국산화
본 기술은 FLAT PRESSURE VE FLOW 방식으로 수CC/MIN에서 500LITER/MIN까지 적용가능하며, 반도체 제조환경의 핵심인 NO PARTICLE(2EA/0.05㎛)로 관리가 가능하며, NEGATIVE PRESSURE에서도 적용가능한 기술이다. 초순수 GAS FLOW 공정에 적용가능하다.본 기술은 GAS FLOW용에 주로 활용이 가능하며의료산업에 활용이 가능하다. 국산화에 따른 원가절감 및 납기단축, 자체 기술력 향상 및 A/S 확보, 정밀가공 및 전해연마 기술 등의 획득이 기대된다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 기계
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-10-28
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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