일반기술
폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체와 이를 이용한 저유전성 절연막 및 그 제조방법
본 기술은 메틸트리메톡시실란 및/또는 메틸트리에톡시실란과 디메틸디메톡시실란으로 이루어진 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체로 이루어진 것을 특징으로 하는 저유전성 절연재료 및 그 제조방법, 이 공중합체를 이용한 저유전성 절연막 및 그 제조방법을 제공하고 있다.본 기술은 공중합 단량체로서 DMDMS를 사용한 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체를 제공하고 있는 바, 이 공중합체를 이용한 절연막은 낮은 크랙전파속도 및 저유전상수를 가짐으로써, 차세대 반도체 산업에서 요구에 대응하는 특성을 가지는 장점이 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 재료 (B63)
- 보유기관
- 서울대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-11-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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