일반기술

덮개막을 이용한 교류 플라즈마 디스플레이 장치용 산화마그네슘 보호막과 그 제조 방법

본 기술은 교류형 플라즈마 표시 장치 내부의 유전체층 보호용 산화마그네슘 보호막의 표면에 수화물의 생성을 억제하는 덮개막을 피복시킨 교류형 플라즈마 디스플레이 장치용 산화마그네슘 보호막과 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 기술의 보호막은 산화마그네슘 보호막의 표면에 산화알루미늄 내지는 산화아연 중의 하나로 이루어진 덮개막이 1~100nm의 두께로 피복형성된 것으로, 산화마그네슘 보호막의 표면에 산화알루미늄 내지는 산화아연 중의 하나를 증착시켜 피복시킨다. 본 기술의 산화마그네슘 덮개막은 피디피 제조 완료 후 초기 방전과정시 플라즈마에 의해 식각되어 제거되고, 종래의 보호막에 비하여 방전특성이 향상된다. 본 기술은 피디피 패널의 소비전력을 감소하는 데 초점을 두고 있으므로, 피디피 패널 제조 공정에 당업계의 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 특성을 변질치 않고 쉽게 적용할 수 있다.

기술정보

기술분류
재료 > 박막 제조 기술 (B62, H64)
보유기관
서울대학교
기술유형
일반기술
등록일
2004-11-24
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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