일반기술

마이크로 히팅 구조를 갖는 전계방출소자 및 그 제조방법

본 기술은 전계 방출 소자 및 그 제조방법 그리고 전계 방출 및 제어방법에 관한 것으로, 특히 전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography)에 적용되는 마이크로 히팅(Micro heating) 구조를 갖는 전계방출 소자 개발에 관한 것이다. 본 기술의 전계 방출 소자는 다중 전자빔 리소그래피 기술에 요구되는 전자빔원의 소형화와 안정성 향상에 기여할 수 있을 뿐만 아니라 마이크로 히터와 팁이 일체형으로 되어 있고 게이트 전극과 서로 분리되어 있으므로 열적 변형에 대해 구조적으로 안정하다. 마이크로 히터 양단에 인가된 전위차에 의해 열이 팁에 전달되어 팁은 주위 이온들에 의한 오염에 대해 안정적이고 게이트 전극에 가한 전위에 의해 팁에 형성된 강한 전계와 함께 안정적이고 높은 전류를 얻을 수 있다. 박막 히터의 온도제어는 히터 양단의 저항값을 측정함으로서 쉽게 제어할 수 있다.