일반기술
박막트랜지스터 제조방법
본 기술은 박막트랜지스터 제조방법에 관한 것으로, 특히 소스/드레인 어닐링 공정 시 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 게이트 모서리와 소스/드레인 접합부에 발생하는 결정결함을 방지하는 박막트랜지스터 제조방법에 관한 것이다. 본 기술은 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 소스/드레인 어닐링시, 레이저광을 비스듬하게 기울여서 조사하는 OI-ELA(Oblique Incidence Excimer Laser Annealing) 방법을 제시함으로써 소스/드레인 접합부에도 레이저 에너지를 충분히 전달하여 접합부 결정 결함이 없는 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 제작이 가능하다. 따라서, 박막트랜지스터의 ON/OFF 스위칭 특성이 우수하며, 장시간 구동에 대해서도 추가의 트랩 상태 생성이 적어 특성이 안정적으로 나타난다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- 서울대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-11-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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