일반기술
실리콘 필드 에미터 어레이의 제조방법
본 기술은 질화실리콘 마스크 패턴을 만든 실리콘 기판의 상면을 적정깊이로 다공질화, 열산화하고 실리콘 질화막과 실리콘 산화막을 식각하여 냉음극 팁을 만드는 공정을 포함하는 실리콘 필드 에미터 어레이의 제조방법에 관한 기술이다." 본 기술은 기판에 다공질 실리콘을 형성한 다음 산화공정을 행함으로써 원하는 위치에 뾰족한 팁을 구현할 수 있고, 종래 기술보다 제조원가를 크게 낮추며, 팁의 균일성, 팁과 게이트 위치의 대칭성 및 거리의 균일성을 보장한다. 본 기술을 이용하여 FED를 만들 경우 한 개의 화소에 3,000~5,000개의 마이크로 진공관이 집적되므로 LCD에 비해 동작안정성이 높고 수율이 높으며 마스크 작업횟수도 적어 저렴한 디스플레이 패널로 상업화할 수 있다."
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- 서울대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-11-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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