일반기술
수소처리를 이용한 광도파로 격자 제작 방법
본 기술은 광도파로에 코팅이나 식각등을 한 후 수소처리를 함으로써 도파로의 위치에 따라 광도파로에 도핑된 수소농도의 차이가 나게하여 UV빔에 노출시에 격자가 형성되게 하는 새로운 격자 형성 방법에 대한 기술이다..본 기술은 광도파로의 위치에 따라 광도파로 내의 수소밀도농도를 다르게 해줌으로써 격자를 제작하는 방법으로 기존의 격자 제작 방법과는 달리 마스크나 간섭계를 이용하지 않고, 수소처리만으로 격자를 제작할 수 있어 더욱 다양한 격자를 제작할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전자요소 기술
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-11-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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