일반기술
광학창을 사용하지 않는 광여기 공정장치 및 방법
본 기술은 광여기 공정(photo-induced process) 장치에 있어서 반응실(reaction chamber)내에서, 광여기에 의한 물질의 증착(deposition) 즉 광화학기상증착(광 CVD: photochemical vapor deposition) 반응 시에 반응가스의 분해에 의해 생성된 물질이나 광여기 산화(oxidation) 및 에칭(etching)에 의해 생성된 물질이 광원 표면이나 광학창에 부착되지 않도록 하는 방법과 장치에 관한 것이다.진공자외선, 자외선, 가시광선, 적외선 등의 광 에너지를 이용한 공정을 진공을 깨지 않고 연속적으로 손쉽게 이용할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 환경 > 수질정화·복원 기술
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.