일반기술
신규한 옥세판-2-온 구조를 함유하는 단량체, 이들의 중합체를 함유하는 포토레지스트 및 그 제조방법과 포토레지스트 패턴 형성 방법
본 기술에 따른 신규한 옥세판-2-온 구조를 함유하는 노르보넨 단량체, 아크릴레이트 단량체, 그리고 메타크릴레이트 단량체를 이용하여 형성된 중합체를 합성하는 방법과 이를 이용한 포토레지스트 패턴 형성에 관한 것이다.기존의 포토레지스트의 매트릭스 중합체로 사용되는 것들과는 달리 광산에 의해 화학증폭형으로 개환반응에 의하여 질량변화없이 카르복시산이 발생된다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학공정
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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