일반기술
전해 애칭을 위한 가공물세척 방법
본 기술은 전해 에칭을 수행하는 동안 균일한 가공형상을 얻기 위하여 가공대상물의 표면을 세척하는 프로세스이다.본 기술은 전해 에칭 도중 전원을 차단하는 간단한 조작으로 초미세 전극 제작시 생성되는 이물질을 손쉽게 제거할 수 있는 방법에 대한 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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