일반기술

전해 애칭을 위한 가공물세척 방법

본 기술은 전해 에칭을 수행하는 동안 균일한 가공형상을 얻기 위하여 가공대상물의 표면을 세척하는 프로세스이다.본 기술은 전해 에칭 도중 전원을 차단하는 간단한 조작으로 초미세 전극 제작시 생성되는 이물질을 손쉽게 제거할 수 있는 방법에 대한 것이다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 전기/전자
보유기관
한국과학기술원
기술유형
일반기술
등록일
2004-12-10
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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