일반기술
다이아조 케토 구조를 함유하는 단량체, 상기 단량체를 함유하는 중합체 및 상기 중합체를 포함하는 포토레지스트 조성물
본 기술은 다이아조 케토 구조를 함유하는 노르보넨 단량체, 아크릴레이트 단량체, 그리고 메타아크릴레이트 단량체, 이들 단량체를 포함하는 중합체, 이 중합체를 포함하는 포토레지스트에 대한 그 제조 방법과 포토레지스트 패턴 형성 방법에 관한 것이다.기존의 포토레지스트의 매트릭스 중합체로 사용되는 것들과는 달리 광산발생제가 필요없어, 광산발생제로 인한 문제점들을 예방할 수 있다. 또한 노광전후 흡광도 차이 효과 (photo bleaching effect)로 빛이 코팅된 바닥까지 도달하지 못해 발생하는 경사진 패턴 (sloped profile) 형성을 피할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학공정
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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