일반기술
나노미터 수준의 패턴화된 고분자 박막의 제조방법
나노입자의 자기조립과 연성식각 방법에 의해 제조된 고분자 채널을 이용하여 복합 인주(composite stamp)의 제조와 이를 이용한 나노수준의 고분자 패턴 제조방법에 관한 것이다.입자의 자기조립과 연성식각공정의 복합공정으로 저렴한 비용으로 빠르게 미세 고분자 패턴 제조 가능하며 저렴한 비용의 대량공정으로 미세 고분자 나노 패턴이 형성 가능하여 기존의 광식각 공정을 대체하여 미세패턴 제조가 가능하다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 나노복합재료 제조공정 기술
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.