일반기술

극소 플래쉬 메모리 소자 구조

본 기술은 스케일링 다운 특성이 우수한 이중-게이트 플래쉬 메모리 구조와 이중-게이트 플래쉬 메모리 소자의 프로그램 및 유지(retention) 특성을 개선할 수 있는 기술이다.- 제조 공정 및 소자 구조가 간단함.- 메모리의 제반 특성을 개선할 수 있음.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
보유기관
한국과학기술원
기술유형
일반기술
등록일
2004-12-10
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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