일반기술
광여기 공정장치 및 방법
본 기술은 투명 필름을 사용한 광여기 공정 장치 및 공정 방법에 관한 것으로, 광원 표면의 온도 상승에 의한 투명 필름의 손상을 방지할 수 있게 구조를 설계하였다.광학창을 사용하지 않으면서 광학창 흐림 문제를 해결하고, 반영구적으로 반응실을 고진공으로 유지할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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