일반기술
박막두께분포를 조절 가능한 선형 및 평면형 증발원
본 발명은 박막 제작을 위한 증발원에 관한 것으로서, 특히 선형 도가니의 분출부에 슬릿을 설치하고, 도가니의 길이 방향에 수직인 방향으로 기판을 이동시키면서 박막을 증착하는 선형 증발원과, 평면형 도가니의 분출부에 슬릿을 설치한 평면형 증발원에 관한 것이다.본 발명의 기술적 특징은 선형 및 평면형 증발원의 분출부에 형성된 슬릿의 모양이나 크기를 조절함으로서, 대면적의 기판에서도 박막의 균일도를 향상시킬 수 있고, 박막의 두께 분포를 원하는 패턴으로 조절 가능하다는 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 기계
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-12-17
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.