일반기술
저온 플라즈마를 이용한 유체 처리장치
플라즈마를 이용한 유체 처리장치에 관한 것으로서, 특히 처리대상이 되는 유체가 유입되어 이동하는 이온가속관을 구비하고, 이 이온가속관의 내부에 전자기 방전하여 유체를 이온화시켜 플라즈마이온이 생성되도록 하는 플라즈마 발생전극을 형성하고, 또 이온가속관 내부의 복수개소에 자기장을 발생시켜 플라즈마이온을 정체시키는토로이달 코일과 플라즈마상태의 전류를 흘려주어 유체 이온의 움직임속도가 가속되도록 하는 콜렉트 전극판을 형성하므로서, 이온가속관 내에서 분자상태의 유체이온이 플라즈마 이온과 충돌하면서 원자이온 상태로 분리되어 처리되도록 하여 유체의 처리효율이 월등히 향상되도록 한 저온 플라즈마를 이용한 유체 처리장치에 관한 것이다.처리대상이 되는 중성의 유체를 원자이온상태로 만들기 위한 이온가속관을 구비하고, 이 이온가속관의 내부에 전자기 방전하여 유체를 이온화시켜 플라즈마이온이 생성되도록 하는 플라즈마 발생전극을 형성하고, 또 이온가속관 내부의 복수개소에 자기장을 발생시켜 플라즈마 이온을 정체시키는 토로이달 코일과 플라즈마상태의 전류를 흘려주어 유체 이온의 움직임속도가 가속되도록 하는 콜렉트 전극판을 형성하므로서, 이온가속관 내에서 분자상태의 유체이온이 플라즈마 이온과 충돌하면서 원자이온 상태로 분리되어 처리되도록 하여 유체의 처리효율이 월등히 향상되도록 한 저온 플라즈마를 이용한 유체 처리장치를 제공함을 목적으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 환경 > 기타 환경
- 보유기관
- (재)충남테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-01-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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