일반기술

스테인 에칭기법을 이용한 마이크로머시닝 방법

발명은 미세기계구조물을 제조하는 마이크로머시닝 방법에 관한 것으로, n형 실리콘기판을 세척하여 확산마스크용 실리콘 산화막을 성장시킨후 인을 확산시켜 n+층을 형성하고, n+층상에 n형 실리콘에피층을 성장시켜 n/n+/n 3층 구조를 만들고 표면에 LPCVD법으로 질화막(Si3N4)을 증착시키는 단계와 상기 질화막을 사진식각법으로 패터닝하고 질화막과 n형 실리콘 에피층을 식각하여 n+층을 노출시키는 단계와 노출된 n+층을 스테인 에칭을 실시하여 다공질 실리콘으로 만드는 단계와 스테인 에칭된 n+층을 제거하여 미세기계구조를 형성하는 단계로 이루어져 짧은 식각시간으로 다양한 모양의 미세구조를 만들 수 있으면서도 공정이 간단한 스테인 에칭 기법을 이용한 마이크로머시닝 방법이다. n형 실리콘기판을 세척하여 확산마스크용 실리콘 산화막을 성장시킨후 인을 확산시켜 n+층을 형성하고, n+층상에 n형 실리콘에피층을 성장시켜 n/n+/n 3층 구조를 만들고 표면에 LPCVD법으로 질화막(Si3N4)을 증착시키는 단계와 상기 질화막을 사진식각법으로 패터닝하고 질화막과 n형 실리콘 에피층을 식각하여 n+층을 노출시키는 단계와 노출된 n+층을 스테인 에칭을 실시하여 다공질 실리콘으로 만드는 단계와 스테인 에칭된 n+층을 제거하여 미세기계구조를 형성하는 단계를 포함하는 스테인 에칭기법을 이용한 마이크로머시닝 방법.