일반기술

불소수지코팅에의한웨이퍼연마슬러리용교반기와탱크의부식방지방법

본 발명은 웨이퍼 세척 슬러리(Wafer Polishing Slurry)용 교반기(Agitator)와 탱크의 부식방지를 위한 불소수지 코팅방법에 관한 것이다.통상 반도체(GaAs)웨이퍼의 제조공정중 세척과정에서 세척슬러리가 교반기의 탱크 내부에서 교반될 때, 염소(Cl2) 가스가 생성되어 교반기와 탱크의 내부를 부식시키는 현상이 발생, 미립자로 인한 웨이퍼 손상, 오염등의 폐해가 초래되었다. 이를 방지하기 위하여 탱크와 교반기를 불소수지로 코팅시키므로써 용기의 부식과 슬러리의 오염방지 및 궁극적으로 고품위의 반도체 웨이퍼를 얻을 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.슬러리 탱크 커버로 밀폐되는 탱크와 그 탱크 내부에, 교반용 프로펠러와 연결된 회전축과 슬러리 배출관이 내장 설치된 교반기에 있어서, 상기 탱크의 내벽면과 하면, 슬러리 탱크커버의 내면, 회전축의 외주면과 프로펠러의 외부면, 슬러리 배출관의 외주면을 별도의 그라인더로 적정량 연마하고, 그 연마부위를 세척수(D.I.Water)로 세척하여 질소(N2) 가스로 건조시키며, 건조된 상기 각 연마부위에 용융불소수지(ECTFE;Ethylene Cholor Trifluoro Ethlene)를 별도의 고압노즐로써 분사하되, 600㎛의 두께로 코팅시킨 다음, 수시간 경과후 별도의 건조기(Dry oven)에서 상기와 같이 코팅된 교반기를 건조하여 교반기의 슬러리 교반시 발생되는 염소(Cl2)가스에 의한 교반기의 부식을 방지할 수 있도록 하였다.

기술정보

기술분류
화학공정 > 기타 화학공정
보유기관
대구기술이전센터
기술유형
일반기술
등록일
2005-04-04
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

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