일반기술

화학기계적 연마장치 및 방법

본 발명은 웨이퍼와 같은 원판상의 가공물을 연마하기 위한 화학기계적 연마장치에 관한 것이다. 진공척을 사용하여 웨이퍼를 흡착하여 회전시키고 상기 진공척에 의해 회전되는 웨이퍼에 연마패드가 소정 압력으로 선접촉되어 회전되면서 연마작업을 수행하게 된다. 이때 상기 연마패드가 설치된 원추 드럼은 그 회전축에 대해 그표면이 경사지게 되어 상기 연마패드가 상기 회전축에 대해 경사지게 설치된 상태로 상기 웨이퍼와 선접촉하게 된다. 이와 같은 발명에 의해 웨이퍼와 연마패드와의 상대속도가 균일하여 연마량이 균일하게 이루어 지고 웨이퍼 가장자리의 과연마가 방지된다.화학기계적 연마장치 및 방법인 본 발명은 웨이퍼와 같은 원판상의 가공물을 연마하기 위한 화학기계적 연마장치에 관란 것이다 진공척을 사용하여 웨이퍼를 흡착하여 회전시키고 상기 진공척에 의해 회전되는 웨이퍼에 연마패드가 소정 압력으로 선접촉되어 회전되면서 연마작업을 수행하게 된다. 연마장치 및 방법에관한 것으로 더욱 상세하게는 원판상의 가공물과 연마패드가 서로 선접촉하면서 연마가 이루어지는 화학 기계적 연마장치 및 방법이다.