일반기술

낮은 X-ray 영역(10-300E)에서의 비전형 광소자와 초고해상도 분광학에 대한 특성화

우리의 관심은 비전형적 광소자(다층 거울 MM), 다중굴절격자(DG), 전송굴절격자(TG)을 사용해서 고-, 초고 해상도 X-ray 분광학에 대한 새로운 접근 방법을 도입하는 것이다. 이것은 일반적인 가시광선 영역에서 낮은 X-ray 영역까지 확장을 한다. 이 기술은 분산과 집중 함수의 분리와 관련이 있다: 낮은 X-ray 방사는 경사 입사 시 TG, 다층 DG, 또는 전형적인 평면 DG에 의해서 분산되는 반면, 집중은 구면 수직입사 MM 또는 비구면에 경사입사 시에 전달된다.개발 상에서의 기술과 수단은 낮은 X-ray 방사와 관련된 물리학과 천문학의 모든 분야에 적용될 수 있다. 특히 이것은 플라즈마 분광학과 융합관련 연구에서의 진단, X-ray 레이저 연구, 레이저 발생 고속 전기 방전 플라즈마, 다중 충전 이온에 관한 물리학, 그리고, 우주 X-ray 천문학과 관련이 있다. 또한 기대되는 것은 X-ray 형광 분석(XRF)와 전자 검침 분석(EPM)에서의 사용이다.