일반기술
폐 코크스 냉각분진을 이용한 활성탄 원료대체재 및 활성탄 제조방법
종래 활성탄 제조를 위해서는 활성탄의 종류 및 형상에 따라 약간의 공정상 차이는 있지만 기본적인 공정은 다음과 같다. 즉 원료를 약 500℃정도로 가열하여 고정탄소만 남기는 탄화공정과, 탄화된 원료를 냉각하는 공정, 냉각된 원료를 다시 일정입도와 크기를 얻기 위해서 파쇄, 정립하는 공정과, 상기 공정중 선별된 원료를 약 800~1000℃정도의 온도분위기에서 수증기등을 분사하여 탄화물의 미세공구조를 발달시키기 위한 활성화공정과, 이를 산으로 세척하기 위한 세정공정, 이를 다시 건조시키기 위한 건조공정, 다시 적정입도록 파쇄하는 분쇄공정과 적당한 입도를 얻기 위한 체질공정 등을 거치게 된다. 따라서 상기 복잡한 활성탄제조공정을 단순화할 수 있고, 원료의 안정적 공급이 가능하며, 저렴하게 생산할 수 있는 활성탄원료의 소재개발이 무엇보다 필요하고, 동시에 이를 이용하여 흡착성능이 우수한 새로운 활성탄을 제조하기 위한 노력도 절실히 요구되고 있는 실정이다.따라서 본 발명자는 먼저 무연탄 및 유연탄 등을 수증기로 개질하여 활성탄의 대체원료로 사용하고자 하였으나, 상기재료는 회분의 함량이 높아 활성탄의 흡착성, 촉매능에 영향을 끼치고, 활성탄 제조시 분쇄 및 파쇄등의 부가적인 공정을 거쳐 일정한 입도를 가지는 분말을 얻어야 하므로 활성탄의 제조가 곤란하고, 제조가가 상승하는 단점을 갖는 것이었다.결국 제철소에서 코크스 제조 공정 중 코크스냉각시에 발생하는 냉각분진이 탄소량이 많고, 회분은 적으며, 미분상태이면서도 비교적 일정한 입도를 가지고 있으므로 굳이 재분쇄를 하여야 할 필요가 없고, 탄화공정을 거칠 필요가 없으므로 종래의 활성탄을 대체할 수 있는 원료로 매우 적당하였다.본 발명은 제철소에서 코크스 제조 공정 중 코크스냉각시에 발생하는 냉각분진을 종래 천연재질의 활성탄을 대체할 수 있는 원료로 이용할 수 있도록 하고, 상기 폐 코크스 냉각분진을 이용하여 활성탄을 제조하므로써 보다 액상의 오염물질흡착능이 우수한 분말 활성탄을 얻을 수 있었다.현재 제철소에서는 코크스 제조 공정시에 탄화가 종료된 코크스를 물 또는 액체질소(N2 )로 급속 냉각하는 공정을 거치게 되는데, 이로인해 폐 코크스 냉각분진이 발생하게 된다. 이때 액체질소를 냉각재로 사용하여 발생하는 분진은 일정한 입도를 가지고, 비교적 크기가 작은 미분이 발생되므로 종래 활성탄의 대체 원료로 매우 바람직하였으나, 냉각재로 물을 사용하는 수냉의 경우는 그 냉각효과로 인해 괴상과 슬러지 형태의 코크스폐기물이 주로 발생하므로 적당한 입도를 얻기 위해서는 분쇄 및 체질공정을 거쳐야 한다. 상기 질소냉각분진과 수냉각 분진의 입도 및 물성은 다음과 같다.냉각분진은 고정 탄소분이 80%이상이며, 회분성분이 15% 이하이고, 평균입도가 0.20∼0.30mm정도로 대단히 균일한 성분을 갖는 분말이며, 따라서 이를 적정한 산화성 기체로 활성화하여 미세공만 발달시키면 비표면적이 매우 크고 흡착 능력이 뛰어난 흡착제로서의 기능을 충분히 소화할 수 있게 되는 것이다.분말 활성탄제조에는 일반적으로 가스활성화와 약품활성화의 2가지 방법을 사용하는데 주로 가스활성화법이 주류를 이루고 있으며, 특히 폐 코크스 냉각분진은 종래의 활성탄 제조공정과는 달리 탄화 및 냉각, 분쇄 및 선별공정을 생략하게 되므로 상당한 생산비용절감을 가져올 수 있는 것이다.즉 상기 질소 냉각분진과 수냉각분진을 이용하여 활성탄을 제조할 경우 질소냉각분진의 경우는 전혀 전처리를 거치지 않고 바로 활성화공정으로 투입될 수 있으며, 수냉각 분진의 경우는 분쇄 및 체질 공정을 거쳐 일정입도, 약 20∼30mm를 유지한 상태로 활성화로( )안으로 투입하게 되는 것이다.따라서 상기 활성화로 내에서 700∼1,100℃정도로 가열되면서 수증기, 공기(산소) 및 연소가스 등이 적절히 혼합된 가스에 의해 활성화시킨 다음, 종래의 활성탄 제조공정과 동일한 공정, 즉 세정, 건조, 분쇄, 체질을 거쳐 활성탄을 제조할 수 있게 되는 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학제품 제조 공정 기술
- 보유기관
- (재)전남테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-05-12
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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