일반기술
초전도체의 켄치전류밀도 증가 방법
본 발명은 초전도체에 관한 것으로서, 상세하게는 기 확립된 제조공정을 통하여 만들어진 초전도 한류기의 특성저하를 발생시키지 않는 방법과 단계별 인가전압상승을 통하여 초전도 한류기의 켄치전류밀도를 향상시키는 초전도체의 켄치전류밀도 증가 방법에 관한 것이다. 종래의 켄치전류밀도 향상기술은 초전도체를 만드는 제조공정 중간에 열처리 공정 및 도핑 물질의 첨가등을 통하여 꾸준히 향상되어 왔으나, 일단 제조 공정을 통하여 제작 및 완료된 초전도체는 시간이 경과하면 지속적으로 특성저하가 발생하는 문제점이 있다. 본 발명은 이미 제작, 완료된 초전도 한류기에 대하여 첫째로 인가전압을 고정한 상태에서 정상전류값의 20∼30배의 급격한 전류변화를 3∼7 주기 동안 약 100회 가량 단계적으로 실시함으로써 켄치전류밀도의 특성저하가 없는 조건을 제시하였으며, 두 번째로 인가전압 상승을 통한 사고전류의 단계적인 상승을 통하여 켄치전류밀도 특성을 약 6%가량 향상시키는 효과가 있다.기 제작, 완료된 박막형 초전도 한류기에 있어서, 정상전류보다 많은 소정의 사고전류를 소정의 주기 동안 흘리는 과정과; 전류를 차단하는 과정과; 소정 횟수 이상 사고전류를 실시하여도 초전도 한류기의 특성을 유지시키는 과정을 포함한는 것을 특징으로 하는 초전도체의 켄치전류밀도 증가 방법. 기 제작, 완료된 박막형 초전도 한류기에 있어서, 정상전류보다 많은 소정의 사고전류를 소정의 주기 동안 흘리는 과정과; 전류를 차단하는 과정과; 소정 횟수 이상 사고전류를 실시하여도 초전도 한류기의 특성을 유지시키는 과정을 포함한는 것을 특징으로 하는 초전도체의 켄치전류밀도 증가 방법.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 부산기술이전센터
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2005-06-13
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.