일반기술

플라스마 음극 전자총

플라스마 음극이 포함된 전자총은 전자빔 용접과 진공상태에서 금속 표면 처리 기술을 위해 개발되었다. 동 전자총의 주요 장점은 고온 전극(열전자의 고형 음극)이 존재하지 않는다는 것이다. 이것은 상당히 긴 사용기간과 높은 작동 압력을 제공하며, 물질 처리에 있어 부족함이 없게 해 준다. 또한 활동적인 가스체와 증발 매체에서의 작동 가능성을 제공한다. 플라스마 음극 전자총은 플라스마가 발생되고, 진공 또는 낮은 압력 가스에서 전자 누출을 위해 고안된 컨디션이 제공되는 곳에 위치한 가스 방전 유니트를 포함한다. 개념적으로, 전자 방출은 다양한 방전 타입으로 이루어진다. 그러나, 동사는 오직 하나의 방전 타입을 갖는 연속적 전자 빔 생산에 초점을 맞추고 전자총 연구를 해왔다. 동사가 연구한 한 가지 방전 타입은 반사된 공동(空洞)-음극 저압, 저전압 방전이다. 이 타입의 방전은 3개의 “차가운(cold)" 전극(공동 음극, 양극, 보조 전극)으로 이루어진 전국 시스템에서 방전이 시작된다. 공동(空洞) 음극과 양극은 원주 모양의 형태를 가지며, 보조 전극은 평면 형태이고 공동 음극의 맞은편에 위치한다. 자기장은 방전실에서 발생된다. 보조 전극(이미터 음극) 방출 체널은 추출된 전자를 통해 만들어진다. 전자 방출을 실행하기 위한 가속 전기장은 이미터 음극과 가속 전극 사이에서 발생된다. 방출 플라스마에서 나온 전자는 가속되어있고, 집중 시스템(focusing system)의 자기장에 의해 집중되어진 빔의 형태로 그룹지어져 있다.전통적인 플라스마 전자총의 파라미터는 다음과 같다. - 가속 전압 : 30~50kV- 빔 전류 : 0.001~0.3A- 빔 직경 : 0.7~0.9mm- 작동 압력 : 10-3~10-5Torr.전자총 동력 래크는 높은 가속 전압과 방전 동력 공급원, 프로그램 된 제어 시스템, 빔 스캐닝을 위한 시스템이 포함된다. 전자총과 동력 공급 기계 생산에 대한 광범위한 경험이 축적되어있으며, 동 전자총은 러시아의 산업 분야에서 10년 이상 성공적으로 사용되고 있다. 본 기술의 플라즈마 전자총의 주요 특징은 높은 작동 압력에도 불구하고 그 수명이 기존의 제품에 비하여 길다는 것으로 이는 경제적 효과로 이어질 수 있다.