일반기술

광기능 소자

본 기술은 전기 입력 또는 광입력에 의하여 광신호 정보를 기억하는 새로운 광기능 소자의 제공에 목적이 있다. 본 기술은 광투과 매체와 광발생 소자를 가지는 광기능 소자이며, 광투과 매체는 특정의 광파장λ↓1으로 저투과율을 나타내며, 그 주위의 광파장λ↓2, λ↓3(λ↓2＜λ↓1＜λ↓3)은 고투과율을 나타내며, 광발생 소자는 전류 주입량 또는 광조사량에 의해 광파장λ↓1, λ↓2, λ↓3의 빛을 발생하여 그 파장 변화는 전류 주입량 또는 광조사량에 대해서 히스테리시스를 일으키며, 광발생 소자로부터의 광파장λ↓1, λ↓2, λ↓3의 빛을 광투과 매체에 조사하여 파장 변화에 히스테리시스가 있는 것으로 부터 광투과 매체를 투과하는 광강도가 저강도 또는 고강도 상태를 보관 유지하는 메모리 기능을 가진다. 여기서 광투과 매체는 희토류(希土類) 원소로서 에르비움： Er↑(3＋)를 함유하는 이트륨 알루미늄 가닛으로부터 형성된 φ3mm×3 mm의 라드를 이용하여 Er의 농도는 50 at%｛즉(Er↓(0. 5) Y↓(0. 5))↓3Al↓5O↓(12))이다.근년에 이르러 광엘렉트로닉스 기술의 진전은 현저하여 광통신, 광컴퓨터 등의 새로운 시대를 개척하는 기반적 기술로서 그 중요성은 더욱 더 커지고 있다. 이러한 상황에 있어, 광기능 소자의 하나로서, 광신호 정보를 기억하는 광메모리가 필요 불가결하고, 그 방법이나 재료의 검토가 진행되고 있다. 이에 본 기술에 의하면 광메모리가 구성 가능해지며, 이 광메모리는 광파장 선정의 방법으로, 제어 입력에 대해서 스윗치·오프형(저광 강도 상태) 및 스윗치·온형(고광 강도 상태)의 어떤 형태의 메모리든지 구성할 수 있다. 또한 본 광기능 소자의 스위칭 시에는 완화 진동의 영향이 없고 고속 동작이 가능하다.