일반기술

Sputter-이온 드릴 기술

동 기술은 고전압 연구소에서 다양한 강도의 바위에 구멍을 뚫기 위해 sputter-이온 방식의 드릴을 개발 하였다. 이 방식의 장점은 모든 레벨의 샘플 즉 어떠한 종류의 대상이라도 기본부터가 완전히 새로운 동 기술의 Impact 방법인 고형 유전체파괴는 방전 효과에 의한 것이다. 필라멘트에서 방출되는 플라즈마는 작업표면에 직접적인 영향을 주는 작업도구이다. Sputter-ion 드릴링 기술은 석유와 천연가스 field의 천공, 드릴 테스트, 수중 천공, 수중 핵폐기물 처리를 위한 바위에 천공 시 사용을 목적으로 한다.동 기술 및 장비의 가장 큰 특징 중의 하나는 전극의 원가와 소비의 정도는 가장 광범위하게 사용되는 절단기보다 낮다는 것으로 공사 원가를 낮출 수 있는 장점이 있다. 실제적으로 유사 제품과 드릴링 특성을 비교하면 다음과 같은 확실한 장점을 볼 수 있게 된다. 다이아몬드 드릴은 500m의 깊이에서 170 kW/h/m3의 전력 소모를 하지만 sputter-ion 드릴은 동일 깊이에서 40 kW/h/m3의 전력 소모를 한다. 이를 통해 동 장치의 경제성을 확인할 수 있다. 동 장치의 사진 및 청공 실험 관련 사진은 첨부 파일을 통해서 볼 수 있다.