일반기술

2D 스테이지 교정

본 기술은 배치 정밀도 측정기기 또는 기계부품의 정밀형상 측정에 사용되는 X-ray 스캐너 시스템의 2D 측정분야에서 배치왜곡(이상적인 장방형의 그리드에 대해)의 정확한 교정에 관한 것으로, 신속한 계산에 따른 정위치 설정이 용이하고 잡음에 둔감한 스테이지 교정 장치에 관한 것이다. 본 기술은 미지의 위치 마크를 가진 딱딱한(rigid) 가공물(여기서 딱딱하다는 의미는 측정 시역(視域) 위에서의 회전이나 이동시 가공물의 형상에 변형이 안 생긴다는 뜻임)을 사용하며, 측정기기의 반복정밀도와 동일한 수준의 정밀도로 측정기기의 측정 필드왜곡(field distortion: 視域歪曲)을 교정한다.1. 신속한 계산이 가능하고, 내(耐)노이즈성을 가지며, 셋업이 용이.2. 거의 모든 2D 배치왜곡 자가교정에 이용.3. 매핑 기능은, 피버팅 포인트 및 회전 각도의 측정을 왜곡함수의 측정과 분리하기 위하여 직교 Fourier 시리즈를 사용하는 일련의 작업에 의해서 수행. 이들 작업에는, 스테이지 위치의 2D 어레이와 Cartesian 좌표계 그리드 사이의 완전 및 불완전 non-4-fold 회전대칭 왜곡을 포함됨. 따라서, 2D 형상 또는 이미지 캡쳐링 시스템(예를 들면, 산업분야나 의료분야의 CT 스캐너, 메디컬 영상)에 효과적으로 활용될 수 있다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 제어·자동화
보유기관
(주)피앤아이비
기술유형
일반기술
등록일
2005-07-20
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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