일반기술

스캐닝/이미징 정렬시스템을 위한 아공간(subspace) 기반의 정렬기술

본 기술은 잡적회로 제조 시스템, 방법 및 컴퓨터 프로그램에 관한 것으로, 집적회로 정렬(alignment) 검출 시스템에 관한 것이다. 본 정렬기술은 정렬신호의 아공간(亜空間) 분할에 기반하여 개발된 것이다. 정열신호의 구조는 한 세트의 트레이닝 신호(training signals)로부터 추출되며, 이어서 이 구조는 새로운 정렬신호의 위치 발견에 이용된다. 이 모델은 공정 파라미터의 변화로 인한 신호의 변화가 작다. 이 기술의 성능을 검증하기 위한 테스트 웨이퍼가 제작된 바 있다. 실험의 결과에 따르면, 일반 메치드 필터링(matched filtering)법에 비해 정렬 에러가 1/10 이상 감소한다.1. 리소그래피 장비에서 정렬 시스템의 성능 개선.2. 하드웨어의 변경이 요구되지 않아 구현이 용이하고 저비용.3. 적응성이 높아 공정변화의 조정능력을 구비.4. 다수의 샘플 정렬신호들로부터 정렬신호 모델을 생성함으로써, 샘플정렬 마크 및/또는 샘플정렬 마크에 형성된 코팅에서의 비대칭성은 새로운 정렬마크의 위치가 검출되면 참작될 수 있음.5. 반도체 제조의 리소그래피 단계에서 웨이퍼의 정렬.6. 반도체 공정의 안정성 감시 활용 가능