일반기술

고형상 전기화학 소자를 위한 개선된 전극-전극구조

본 기술은 전극/전해질/전극을 포함하는 삼층구조와, 상기 삼층구조를 동시에 소결하여 전기화학소자를 제조하는 기술에 관한 것으로, 제1 전극층, 전해질층, 제2 전극층으로 적층된 3층 구조를 소결하되, 상기 삼층구조를 육각 또는 관형태로 제조한 것이다. 상기 제조공정에서 투과성 전극은 박막 전해 필름과 투과성의 반대 전극으로 싸여지도록 한 후에 함께 소결(co-fired)되어 고성능을 갖는 박막 필름소자를 생산할 수 있게 되어 개선된 성능과 신뢰성을 제공할 수 있다.본 기술은 전극/전해질/전극으로 이루어진 적층된 삼층구조로 구성되어 있기 때문에 고강도 및 높은 전기 전도성을 가진다. 또한, 본 기술을 이용하여 회로기판을 제조할 경우에 개선된 성능 향상과 신뢰성을 유지할 수 있다. 상기 전해질층은 1 ∼ 50 마이크론 두께로 이루어지게 되는데, 바람직한 두께로는 5 ∼ 20 마이크론이고, 상기 삼층구조의 두께는 대략 10 μm ∼ 2000 μm이다. 상기 삼층구조의 혼합구조에서는 추가적으로 1mm의 보조지지기판이 채용될 수 있다.

기술정보

기술분류
화학공정 > 전지 제조 공정 기술
보유기관
(주)피앤아이비
기술유형
일반기술
등록일
2005-07-12
데이터 갱신일
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상세설명

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